名称: | |
描述: | |
公开/私有: | 公开 私有 |
大规模集成电路工厂洁净技术, (日)铃木道夫等著 |
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ISBN:
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7-5053-0667-7 价格: ¥24.00 |
语种:
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chi |
题名:
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大规模集成电路工厂洁净技术 / (日)铃木道夫等著 , 陈衡等译 |
出版发行:
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出版地: 北京 出版社: 电子工业出版社 出版日期: 1990 |
载体形态:
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522页 25cm |
摘要:
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本书作者从理论和实践两方面详细阐述了当前大规模集成电路生产工艺对洁净技术的要求和今后发展方向、超级洁净室的设计、施工技术问题和应采取的措施、辅助设施超纯水、药品、废水处理和高纯气体等最新应用技术以及洁净室运行管理的实际问题。 |
主题:
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大规模集成电路-工厂-净化 |
主题:
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工厂-大规模集成电路-净化 |
主题:
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净化-工厂-大规模集成电路 |
中图分类:
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TN082 版次: |
中图分类:
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TN47 版次: |
科图分类:
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73.7551 版次: |
主要著者:
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铃木道夫 著 |
主要著者:
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陈衡 译 |
索书号
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TN082/1 |
标签:
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分享资源:
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HEA| |01541nam0 2200313 45 001| |0149174078 005| |1920010529145847 010| |□a7-5053-0667-7□d¥24.00 100| |□a20010529d1990 em y0chiy0121 ea 101|1 |□achi□cjpn 102| |□aCN□b110000 105| |□ay z 000yy 106| |□ar 200|10|□a大规模集成电路工厂洁净技术□f(日)铃木道夫等著□g陈衡- | |等译□Ada gui mo ji cheng dian lu- | | gong chang jie jing ji shu 210| |□a北京□c电子工业出版社□d1990 215| |□a522页□d25cm 330| |□a本书作者从理论和实践两方面详细阐述了当前大规模集成电路生- | |产工艺对洁净技术的要求和今后发展方向、超级洁净室的设计、施工- | |技术问题和应采取的措施、辅助设施超纯水、药品、废水处理和高纯- | |气体等最新应用技术以及洁净室运行管理的实际问题。 606| |□a大规模集成电路-工厂-净化 606| |□a工厂-大规模集成电路-净化 606| |□a净化-工厂-大规模集成电路 690| |□aTN082 690| |□aTN47 692| |□a73.7551 701| 0|□a铃木道夫□4著□Aling mu dao fu 701| 0|□a陈衡□4译□Achen heng 801| 2|□aCN□bMT 905| |□aMT□fTN082/1□b0221044□t162228- | |8□kwe□b0663868□t1622287□kj 908| |□a0221044□b111091□cMT□d0□e2□fT- | |N082/1□gMT□hyt□i□j24.0□k□l1□m- | |□n0□o平装□p0□q1990-01-01□r24.0□t- | |□u□v999_CN01□w1990-01-01□y订购□zyt 908| |□aM0221044□b1900080534□cMT□d□e- | |2□fTN082/1□gMT□hyt□i□j24□k□l1- | |□m□n□o平装□p□q1990-01-01□r□t□u□v- | |999_CN01□w1990-01-01□y□zyt