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| 描述: | |
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标签:
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MOS集成电路工艺规范, 上海元件五厂,上海半导体研究所编 |
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ISBN:
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价格： ￥0.80 |
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语种:
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chi |
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题名:
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MOS集成电路工艺规范 / 上海元件五厂,上海半导体研究所编 , |
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出版发行:
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出版地： 上海 出版社： 上海科学技术文献出版社 出版日期： 1980 |
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载体形态:
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196页 21cm |
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附注内容:
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书名原文:Silicon wafer fabrication manual v.2: MOS silicon wafer processing |
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主题:
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MOS集成电路 规范 |
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中图分类:
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TN43 版次： |
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中图分类:
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TN432-65 版次： 3 |
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团体著者:
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上海元件五厂 编 |
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团体著者:
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上海半导体研究所 编 |
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索书号
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TN43/8 |
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标签:
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相关主题:
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分享资源:
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限定所在馆:
限定所在馆藏地点:
限定馆藏状态:
HEA| |01682nam0 2200349 45 001| |0149174844 005| |1920010628133303 010| |□d￥0.80 091| |□aCN□b15192.78 100| |□a20010628d1980 em y0chiy0121 ea 101|1 |□achi□ceng 102| |□aCN□b310000 105| |□ay z 000yy 106| |□ar 200|10|□aMOS集成电路工艺规范□AMOS ji cheng di- | |an lu gong yi gui fan□f上海元件五厂,上海半导体研究所编 210| |□a上海□c上海科学技术文献出版社□d1980 215| |□a196页□d21cm 300| |□a书名原文:Silicon wafer fabricati- | |on manual v.2: MOS silicon waf- | |er processing 510|1 |□aSilicon wafer fabrication ma- | |nual v.2: MOS silicon wafer pr- | |ocessing□zeng 606| |□aMOS集成电路□x规范 690| |□aTN43 690| |□aTN432-65□v3 711|02|□a上海元件五厂□Ashang hai yuan jian - | |wu chang□4编 711|02|□a上海半导体研究所□Ashang hai ban dao - | |ti yan jiu suo□4编 801| 0|□aCN□b上海图书馆 801| 2|□aCN□bNLC 801| 2|□aCN□bMT 905| |□aMT□fTN43/8□b0219007□t888424□- | |kwe□b0219013□t888421□kwe□b0285- | |685□t888423□kj□b0665668□t888422□kj 908| |□a0219007□b464311□cMT□d0□e2□fT- | |N43/8□gMT□hyt□i□j0.8□k□l1□m□n- | |□o平装□p888424□q2002-06-10□r0.8□- | |t□u□v999_CN01□w2002-06-10□y订购□zyt 908| |□a0219013□b464311□cMT□d0□e2□fT- | |N43/8□gMT□hyt□i□j0.8□k□l1□m□n- | |□o平装□p888421□q2002-06-10□r0.8□- | |t□u□v999_CN01□w2002-06-10□y订购□zyt 908| |□aM0219007□b1900025228□cMT□d□e- | |2□fTN43/8□gMT□hyt□i□j.8□k□l1□- | |m□n□o平装□p□q2002-06-10□r□t□u□v9- | |99_CN01□w2002-06-10□y□zyt 908| |□aM0219013□b1900025228□cMT□d□e- | |2□fTN43/8□gMT□hyt□i□j.8□k□l1□- | |m□n□o平装□p□q2002-06-10□r□t□u□v9- | |99_CN01□w2002-06-10□y□zyt