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离子注入与分析基础, 王贻华，胡正琼编
ISBN:	7-80046-424-5 价格：￥3.50
语种:	chi
题名:	离子注入与分析基础 / 王贻华，胡正琼编 ,
出版发行:	出版地：北京出版社：航空工业出版社出版日期： 1992.7
载体形态:	181页 26cm
摘要:	包括离子注入的一般原理与材料表面的分析两大部分，内容侧重金属材料离子束改性的原理、方法和应用。
主题:	离子注入分析
中图分类:	TG174.442 版次： 3
主要著者:	王贻华编
主要著者:	胡正琼编
索书号	TG174.442/14
标签:	没有标签
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离子注入与分析基础, 王贻华，胡正琼编